[아시아경제 김은별 기자]주성엔지니어링은 플라즈마 식각장치에 대한 특허권을 취득했다고 12일 공시했다.

회사 측은 "본 발명은 대기압 근처에서 플라즈마를 발생시켜 기판 단부의 막질을 제거할 수 있는 DBD(Dielectric Barrier Discharge, 유전체 장벽 방전) 또는 고압력 CCP(Capacitor Coupled Plasma, 축전 결합형 플라즈마) 방전을 이용한 플라즈마 식각 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다"고 설명했다.

김은별 기자 silverstar@asiae.co.kr
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