[아시아경제 김철현 기자]동국대학교에 미국과 러시아 우수연구기관의 분소가 설치된다. 동국대 분소에는 향후 6년간 총 289만 달러가 투자될 예정이다.

교육과학기술부는 동국대학교(총장 오영교)가 10일 NT-IT 융합기술 분야 공동연구를 위해 러시아 과학원 산하의 IMT(Institute of Microelectronics Technology) 및 미국 UCLA의 CNSI(California Nano system Institute)와 MOU를 체결하고 각 연구기관의 분소 개소식을 가졌다고 밝혔다.

NT(나노기술) 분야의 세계적 연구기관인 IMT는 기존 반도체소자의 한계를 극복할 꿈의 소재인 '그래핀(Graphene)' 연구의 발원지로, 동국대 분소 운영에 향후 6년간 222만 달러를 투자할 계획이다.

또한 지난 2000년 캘리포니아 주정부가 NT, IT, BT(바이오기술) 분야의 학제간 융합연구를 위해 설립한 CNSI는 IT분야 세계 최고수준의 연구기관으로 인정받고 있으며, 동국대 분소 운영에 6년간 67만 달러을 투자하겠다고 밝혔다.

동국대 양자기능반도체연구센터는 두 연구기관이 보유한 NT-IT 분야 원천기술을 활용해 기존 기술의 한계를 뛰어넘는 신개념 반도체 정보소자를 개발할 방침이다. 개발기술은 산업체에 이전된다.

교과부 관계자는 "동국대에 설치된 IMT와 CNSI의 분소는 국내 연구진과의 공동 연구개발을 통해 미래 유비쿼터스 사회 구현에 기여할 것으로 기대된다"고 말했다.

한편 이날 개소식은 동국대 오영교 총장과 양자기능반도체연구센터 강태원 소장, 교과부 이은우 국제협력국장, 한국연구재단 최광학 국제화정책기획단장, 러시아 IMT 튤린 소장과 로쉬프킨 부소장, UCLA CNSI의 바이스 소장 등이 참석한 가운데 진행됐다.

두 연구기관의 국내 분소 설치는 세계수준의 해외우수연구기관을 유치해 국내 R&D역량을 제고하는 것을 목적으로 하는 교과부의 '해외우수연구기관 유치사업'을 통해 지원됐다.

김철현 기자 kch@asiae.co.kr
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