[아시아경제 우경희 기자]하이닉스반도체가 내년도 설비 투자금액을 크게 늘리고 공격 경영을 선언했다.

하이닉스는 24일 공시를 통해 내년도 2조3000억원의 시설투자를 계획하고 있다고 밝혔다. 하이닉스는 지난 3분기 경영설명회에서 내년에 총 1조5000억원의 시설투자계획을 발표한 바 있다. 한 분기도 지나기 전에 투자계획이 약 8000억원 가량 증액된 셈이다.

하이닉스 관계자는 "3분기까지는 사업계획이 수립되지 않았던 만큼 조심스럽게 목표를 설정할 수밖에 없었다"며 "4분기 호전된 영업성과가 반영되면서 내년 설비 투자계획을 확대시켰다"고 설명했다.

하이닉스는 내년 ▲D램 40나노 공정 전환 ▲낸드플래시 생산량 증대 ▲R&D(연구개발) 등에 지속적으로 투자하겠다고 밝혔다. 회사 관계자는 "시장 상황이 호전되면서 생산량 증대 폭도 예정보다 확대시키고 공정전환 속도도 더 빠르게 하기 위해 투자금액을 증액한 것"이라고 말했다.

한편 지난 3분기 흑자전환에 성공한 하이닉스는 4분기에도 쾌조의 영업실적을 이어갈 전망이다. 회사 관계자는 "4분기 실적은 아직 집계 중이지만 시장의 기대에 부응할 수 있을 것으로 보고 있다"고 말했다.

우경희 기자 khwoo@asiae.co.kr
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