[아시아경제 김현정 기자] 일본 히타치화성공업이 국내 반도체 장비업체인 케이씨텍을 상대로 특허침해 소송을 제기했다. 케이씨텍은 승소를 자신하면서 향후 맞소송 가능성도 내비쳤다.

15일 히타치화성은 케이씨텍이 화학기계적 연마의 산화세슘 슬러리(CMP슬러리) 관련 특허권을 침해했다면서 미국 텍사스주 오스틴 서부지방법원에 소송을 제기한다고 밝혔다.

케이씨텍의 CMP슬러리 'KCS-3100'이 자사의 미국 특허권을 침해했으며 지난해 6월부터 문제해결을 위한 협의를 진행했지만 합의점을 찾지 못했다는 게 히타치화성 측의 설명이다. 히타치화성 측이 침해당했다고 주장하는 특허권은 2건으로 USP 7,115,021과 USP 7,871,308이다.

이에 대해 케이씨텍 관계자는 "내부적으로 특허를 통해서 소송 가능성을 회피해 놓은 상태"라면서 "소송이 끝까지 진행된다 해도 승소할 수 있을 것"이라고 자신했다. 이 관계자는 "특허 침해와 관련해서는 케이씨텍 역시 히타치 측으로부터 특허권을 침해받았다고 파악되는 부분이 있다"면서 "향후 강력하게 대응할 예정이며 맞소송까지 진행될 수 있다"고 말했다.

다만 "향후 히타치 측의 의도를 추가적으로 파악해야겠지만, 소송이 진행되는 과정에서 서로 크로스라이센스를 체결하는 방식으로 마무리 될 가능성도 있다"고 덧붙였다.

논란이 되고 있는 CMP슬러리는 반도체 평탄화 공정에 사용되는 연마제로, 화학적 연마와 기계적 연마를 동시에 수행해 웨이퍼의 평탄도를 높이고 공정 시간을 줄일 수 있다. 히타치화성의 CMP슬러리 가운데 STI용은 세계 1위 점유율을 차지하고 있다.

김현정 기자 alphag@
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