[아시아경제 배경환 기자] 테스는 실리콘 산화막의 건식 식각 방법에 대한 특허권을 취득했다고 8일 공시했다. 회사 관계자에 따르면 본 특허로 기판 위에 형성된 실리콘 산화막을 매우 빠른 식각 속도를 가지고 식각하는 것이 가능해진다.


배경환 기자 khbae@
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