[아시아경제 박민규 기자] 반도체 화학증기증착(CVD) 제조공정 때 발생하는 분진(파우더)이 인체에 무해하다는 삼성전자의 연구 논문이 세계적으로 권위 있는 학술지에 실렸다.

29일 삼성전자에 따르면 사내 건강연구소가 최근 발간한 'CVD TEOS(테트라에틸 오소실리케이트) 공정 설비 내에서 생성된 부산물 특성 연구' 논문이 미국 산업환경보건학술지(JOEH)에 게재됐다.

이 논문은 반도체 제조공정 중 절연막 소재인 TEOS를 사용한 CVD 공정에서 발생하는 분진의 성분과 크기·결정 구조 등을 살펴 잠재적 위험 요인을 분석한 것이다.

건강연구소가 기압(AP) CVD 설비에서 채취한 분진을 전자현미경 및 X선 회절 분석을 통해 조사한 결과 이 분진은 실리콘과 산소로 구성된 실리카(이산화규소)인 것으로 나타났다. 이 실리카의 평균 입자 크기는 150㎚(1나노미터는 10억분의 1미터)로 확인됐다. 그 외 다른 물질은 없는 것으로 조사됐다.

실리카는 결정 구조에 따라 독성이 다르다. 결정성 실리카는 발암성 물질로 만성적 폐 질환을 일으킬 수 있다. 그러나 건강연구소가 확인한 실리카는 비결정성인 것으로 나타났다. 비결정성 실리카는 폐에 영향을 거의 미치지 않는 물질로 알려져 있다.

이번 논문이 게재된 JOEH는 미국 산업위생학회(AIHA)와 산업위생사협회(ACGIH)가 공동 편찬한 학술지다. 산업위생 분야에서 세계적으로 권위를 인정받고 있다.

이 학술지는 미국 과학연구 정보업체인 톰슨사이언티픽(옛 ISI)이 선정하는 '과학기술논문 인용색인(SCI)'에 등록돼 있다. SCI는 세계적으로 학술적 기여도와 권위를 인정 받는 척도다.

2010년 4월 설립된 삼성전자 건강연구소는 국내 기업 최초 산업보건 민간연구소다. 반도체 제조 근무환경에서 발생하는 위험요인을 사전에 발견해 제거하고 근로자들의 안전성을 높이기 위해 만들어졌다.




박민규 기자 yushin@
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