[아시아경제 김유리 기자]5일 오전 경기도 이천의 SK하이닉스 공장에서 가스 누출 사고가 발생해 작업자 2명이 병원 치료를 받았다.

소방당국에 따르면 사고는 이천시 부발읍 SK하이닉스 공장 D램 반도체 공정라인에서 발생했으며 반도체 공정에 필요한 가스 공급배관 이음새에 생긴 틈으로 가스가 누출되면서 발생했다.

작업자 2명은 두통과 구토 증세를 나타냈으나 병원에 걸어서 들어가는 등 심각한 상태는 아닌 것으로 알려졌다. 이들은 병원 진료 후 30여분 만에 귀가조치됐다. 작업장에 있던 나머지 39명 역시 특별한 증세는 없지만 검진 차원에서 병원을 방문했다.

하이닉스 공장 측은 사고 직후 부상자를 병원에 옮긴 뒤 가스 공급배관 이음새를 교체해 오후 1시20분께 조치를 완료했다. 소방당국은 정확한 사고 경위를 조사 중이다.





김유리 기자 yr61@asiae.co.kr
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