[아시아경제 명진규 기자] 반도체 업계에서 유일하게 14나노 핀펫 공정으로 반도체를 생산중인 삼성전자가 이번에는 불가능하다고 여겨졌던 10나노 공정 기술을 개발 완료한 뒤 이를 공개했다.

경쟁사 보다 1년 빨리 14나노 공정에서 반도체 양산에 나선 삼성전자가 다시 한번 기술의 한계를 뛰어넘으며 '초격차'를 다시 한번 구현한 것이다.

김기남 삼성전자 반도체총괄 사장은 23일(현지시간) 미국 샌프란시스코에서 열린 국제고체회로학회(ISSCC)의 기조연설을 맡아 반도체 미세화 공정을 소개하며 삼성전자가 10나노 기술 개발을 완료했다고 밝혔다.

ISSCC는 세계 반도체 전문가들이 모여 관련 연구 논문을 발표하는 학회로 3대 반도체 기술 관련 학회로 손꼽힌다. 김 사장은 미국 공학한림원 정회원이자 국제전기전자기술협회(IEEE) 펠로우 자격으로 학회에 참석해 기조연설을 맡았다.

김 사장은 "사물인터넷을 포함한 IT 기기의 확산으로 데이터 시대가 본격화 될 것"이라며 "반도체 칩의 성능 향상 및 저전력 솔루션을 위해 실리콘 공정 미세화, 첨단 패키징, 애플리케이션 최적화 시스템 솔루션 기술 등이 더욱 중요해질 것"이라고 말했다.

연설 도중 김 사장은 10나노 반도체 기술을 공개해 좌중을 놀라게 했다. 메모리 분야에선 10나노급 D램과 3차원 V낸드, 시스템 반도체의 경우 10나노 핀펫 기술을 선보였다.

현재 14나노 공정에서 반도체를 생산하는 업체는 삼성전자가 유일하다. 인텔이 하반기 14나노 핀펫 공정에서 시스템반도체를 생산할 계획을 갖고 있다.

삼성전자가 이날 공개한 10나노 기술은 종전 14나노 기술을 다시 한번 뛰어넘은 것이다. 파운드리 전문 업체 TSMC가 올해부터 10나노 기술에서 반도체를 양산하겠다는 계획을 밝혔지만 아직 관련 공정기술을 개발중으로 삼성전자가 다시 한번 나노 경쟁에서 앞서가는 계기가 될 것으로 관측된다.



명진규 기자 aeon@asiae.co.kr
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