[아시아경제 황준호 기자] 테스는 플라즈마 처리장치에 대한 특허권을 취득했다고 13일 공시했다.

회사측은 특허권을 획득한 플라즈마 처리장치 이용시 고밀도의 플라즈마를 기판에 분사해 기판에 형성된 박막의 균일도를 높일 수 있는 효과가 있다. 또 플라즈마 디퓨저의 하부에 고주파 전계를 가해 플라즈마 디퓨저로부터 분사된 플라즈마의 밀도를 유지시킬 수 있는 효과가 있다고 전했다.

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황준호 기자 rephwang@asiae.co.kr
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