[아시아경제 이창환 기자] 삼성전자가 네덜란드 반도체 리소그래피(노광) 장비업체인 ASML에 약 7억7900만유로를 투자한다고 27일 밝혔다.

삼성전자는 ASML이 진행하는 고객사와의 공동 투자 프로그램에 참여하는 형식으로 2억7600만 유로를 ASML 차세대 리소그래피 기술 연구개발에 5년에 걸쳐 투자한다고 밝혔다. 또한 삼성전자는 5억300만유로 상당의 ASML 지분 3%도 인수 할 계획이다.

ASML은 반도체 미세회로 패턴 형성에 필요한 EUV (Extreme Ultraviolet, 극자외선) 리소그래피 기술을 가진 업체로, 삼성전자에 앞서 이번 공동 투자 프로그램을 통해 인텔, TSMC와도 투자 계약을 맺었다.

삼성전자는 이번 투자가 차세대 EUV 리소그래피 기술개발 시기를 앞당겨 반도체 산업 발전에 도움이 될 것으로 기대했다.

이창환 기자 goldfish@
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